小梅沙 发表于 4 天前

哈工大EUV光源

技术特点
该技术采用激光诱导放电等离子体(LDP)方法,通过激光汽化锡并施加高压电极产生等离子体,生成波长为13.5纳米的极紫外光。与传统激光等离子体(LPP)技术相比,具有更高能量转换效率、更低成本的优势,且结构更紧凑。 ‌

核心突破
‌光源模块‌:实现功率密度提升约37%,波长稳定性达到0.02纳米级别,并通过2000小时连续运行测试。 ‌
‌光学系统‌:开发新型钼硅多层膜反射镜,反射率提升至68.5%,较国际主流产品提升4.2个百分点。 ‌
‌专利技术‌:拥有23项发明专利,涵盖等离子体稳定控制、多层膜制备等关键技术。 ‌
应用前景
若实现产业化,预计可使国产EUV光刻机制造成本降低40%以上,维护周期延长至现有水平的3倍。首台工程样机预计两年内完成集成测试,并配套建设完整供应链体系。 ‌

a4633464 发表于 4 天前

光源现在应该是新凯来主导了,正在大规模招聘光源方面的人才,华科/浙大/长春光机所都去过了
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