本帖最后由 academic818 于 2024-12-31 10:12 编辑
12月10日，中国光学学会公布了2024年度中国光学学会科技创新奖项。浙江大学光电科学与工程学院刘旭、匡翠方教授团队成果喜获2024年度中国光学学会科技创新奖特等奖——技术发明奖。
完成人：刘旭、匡翠方、陈世祈、朱大钊、曹春、温积森、黄木旺、朱勤艳 完成单位：浙江大学、香港中文大学、杭州玉之泉精密仪器有限公司、杭州电子科技大学、浙江大学杭州国际科创中心、福建福特科光电股份有限公司、浙江扬帆新材料股份有限公司 项目介绍： 刘旭教授、匡翠方教授团队联合香港中文大学等多家单位，围绕超分辨并行激光直写光刻技术与装备开展一系列研究，提出了多通道边缘光抑制与化学材料抑制的激光直写光刻新技术，不仅突破了光学衍射极限，还克服了单通道光刻效率低及光束波动引起的光刻稳定性差的问题，实现了高精度、高通量、高稳定性的激光纳米直写光刻，刻写精度达50 nm以下，并行光束通道数可达万束，建立了独特的3D纳米光刻制造的新途径。 面向并行超分辨激光直写光刻技术与系统，自主研发了包括高通量并行直写技术、高精度超分辨焦斑调制技术、高精度光束稳定技术、高精度焦面跟踪技术、边缘光与材料抑制光刻胶技术、高性能控制系统及软件在内的全套关键核心技术，全面实现了以上技术与系统的自主可控，相关技术指标达到国际一流水平。联合团队的研究工作，在国际一流学术期刊上发表SCI论文23篇，取得了成体系的知识产权，申请国家发明专利77项，其中授权25项，取得软著证书6项，项目相关技术成果应用于国内70多家单位，与多家企业合作，进行技术转让与产业化，打破了欧美企业在直写光刻装备的垄断，建成了高端3D纳米直写光刻装置体系，取得了显著的经济及社会效益。
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发表于 2024-12-31 10:11:08
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发表于 2024-12-31 16:51:57
