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发表于 2025-1-23 22:19:27
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电极侵蚀是DPP 光源结构设计所面临的一个重大挑战。它会导致电极寿命下降,也会对等离子体纯度造成影响,进一步地会加剧放电性能的不稳定性。在之后的章节对于 DPP 光源结构的论述中,我们会着重阐述各路大神是怎样八仙过海应对这一问题的。有采用无电极设计的,消除电极与等离子体的接触;有动态更换电极材料的,持续更换被侵蚀的电极材料;有采用局部化侵蚀设计的,将损耗控制在很小的区域内。这些设计可以说是非常巧妙,精彩。但是,你懂的,工程设计是妥协的艺术,它们或多或少都存在一些限制。这个就留到以后细讲了。
在我写这篇稿子的时候,看到了哈工大研制出了基于 DPP 的 EUV 光源的新闻。真的发自内心为国家科技的进步感到高兴。这算得上量产光刻机的一个核心突破了。尽管摆在我们面前的技术难题还有很多,但是锲而不舍,金石可镂。国产光刻的进步容不得侥幸,也不存在捷径,这些难关必须一个不少地解决。所谓的弯道超车,只不过是比别人付出了更多罢了。我本人是坚信国产光刻一定会追平乃至超越当前国际水平的。我们国家的社会制度是有优越性的,是能够集中力量办大事的,只要大家心往一处想,劲往一处使,没有无法克服的困难的。前途是光明的,道路是曲折的,人生也是这样,波浪式前进,螺旋式上升。尽管可能有人说,前途光明我看不见,道路曲折我走不完,但这些都是主观感受,我们要相信客观事实,前途一定是光明的,道路也一定是曲折的,唯一值得恐惧的只有恐惧本身。
雄关漫道真如铁,而今迈步从头越。从头越,苍山如海,残阳如血! |
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