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发表于 2025-10-15 17:23:53
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光刻机的那个大学没做点贡献
能流束超高精度加工技术,首先提出这个说法的是国防科技大学。其主要背景是,光刻机曝光光学系统的光学零件的最后纳米精度加工手段中,主要是离子束抛光技术、磁流变抛光技术、射流抛光技术,都不是一些传统近固态的抛光模具,其加工和检测都已经达到原子级的精度。这里有一个例子,蔡司(zeiss)一个450mm直径的镜面,面型精度是50pm,相当于850km见方的区域内高低偏差只有75微米。 目前,最高精度的光刻机是zeiss的EUV光刻机。其EUV3400型号的光刻机的镜头光学元件的精度面形达到50pm。 2010年,彭小强带领的磁流变研究小组实现了光学元件面形精度20nmPV的突破,这意味着他们具备了加工光刻物镜这类超高精度光学零件的装备和工艺。这也是超精密加工团队近20年来取得的最重要的研究成果之一。彭小强教授带领的超精密加工团队的设备交付长光所和成光电,目前DUV,EUV的光刻物镜都能做,这也是光刻的核心部件。实打实的贡献,你哈吹得都是虚无缥缈,啥贡献没有,吹逼第一位,EUV影子都没有。说说你哈的东西具体怎么用在光刻机的啊。 |
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