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发表于 2026-4-25 23:25:18
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dayubenshen 发表于 2026-4-25 20:15% E' l" ]2 Z8 q# T
直写光刻机不是啥新鲜技术,开始好像也是台湾人发明的。国内有家上市公司芯碁微装就是专门做直写光刻机,很 ...
6 b7 O) z! d1 y0 m浙大激光直写光刻机龚旗煌院士怎么评价根据公开信息,中国科学院院士龚旗煌对浙江大学研发的万通道3D纳米激光直写光刻机给予了高度评价,主要观点如下:革命性突破龚旗煌院士认为,万通道技术是激光直写领域的革命性突破,解决了长期困扰行业的“速度与精度矛盾”难题。该技术通过“数字微镜协同微透镜阵列”光场调控方案,实现1万多个激光焦点并行加工,既保证了亚30纳米的高精度,又大幅提升了加工速率,突破了传统单束激光直写技术的局限。产业格局重塑他指出,该设备的落地将彻底改变高端掩模制造的产业格局,为国产芯片产业链补链强链提供关键支撑。它打破了国外在高端掩模制造设备领域的垄断,使国内企业能够自主生产高端掩模版,降低对进口设备的依赖,减少技术封锁和禁运风险。全链条自主可控龚旗煌强调,浙大团队不仅研发了光刻机,还同步发布了桌面式高亮极紫外光源和桌面式极紫外光显微镜,形成了“光源-制造-检测”的闭环体系,实现了高端掩模制造全链条的自主可控,有助于提升国产光刻工艺的良率和芯片自主化进程。总体而言,龚旗煌院士认为该成果标志着我国在高端激光直写领域实现从跟跑到领跑的转变,为半导体产业自主化开辟了全新路径,具有重要的战略意义和产业化前景 |
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